突破深紫外极限：光研科技193nm DUV光学元件检测方案

2025-11-18 08:53| 发布者: update| 查看: 550| 评论: 5

摘要: 在半导体、光刻技术及高端光学系统飞速发展的今天，深紫外（DUV）波段的光学性能已成为决定系统成败的关键。尤其是193nm波长，作为DUV光刻与精密光学系统的核心，对滤光片、透镜、窗口片等元件的透过率与反射率提出 ...

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最新评论

lingshifan 2025-11-18 13:23 引用

我记得好像是2001年开始搞的吧。

frankgui 2025-11-18 12:53 引用

鼎力支持！！

calmy 2025-11-18 10:23 引用

very good thanks

davidEX 2025-11-18 09:53 引用

我是个凑数的。。。

bstkevin 2025-11-18 08:53 引用

鼎力支持！！