光学薄膜的典型涂布方法

　　目前光学薄膜的涂布方法包括浸渍涂布法、旋转涂布法、刮刀涂布法、狭缝涂布法等。接下来针对几种典型的涂布方法进行介绍。

　　浸渍涂布法

　　浸渍涂布法是应用较早的一种涂布方法。主要分为三个过程，先将基材浸入到涂布液中使涂布液可以包裹住基材。然后以一定的速度将基材慢慢从涂布液中拉出。最后随着涂布液的回流和溶剂的挥发在基材表面形成薄膜。薄膜的厚度可以通过改变基材拉出的速度来控制。

　　旋转涂布

　　旋转涂布法是在一个可以旋转的平台上完成的涂布工艺。在进行旋转涂布时，先将基材放在一个旋转台上，并在基材中央滴入涂布液，此时电机带动旋转台和基材开始旋转，由于离心力的作用会使涂布液逐步向基材外围展开，最终形成薄膜。此方法涂出的薄膜厚度主要取决于涂布液本身的性质和旋转台的转速。旋转涂布法在电子产业有着较为广泛的应用，但是由于其自身工艺的限制，目前旋转涂布法制备光学薄膜只限于小尺寸的薄膜生产，并不适合于制备大尺寸的光学薄膜。

　　刮刀涂布

　　刮刀涂布法以刮刀作为核心涂布器件，在进行涂布时，先将涂布液倒在基材表面，将刮刀与基材的缝隙高度设置好以后，利用基材或者刮刀的移动将基材表面多余的涂布液刮掉，得到目标厚度的薄膜。

　　狭缝涂布法

　　狭缝涂布法在制备高精度薄膜方面得到了较为广泛的应用。狭缝涂布法是一种精密的涂布技术，工作原理为涂布液在受到压力的情况下沿着涂布机模头的缝隙喷出涂覆在基材表面。与其他涂布方式相比较，它有许多优点，例如可以以较快的速度进行涂布，涂布精度较高、涂出的湿膜膜厚较为均匀等。在进行狭缝涂布过程中系统封闭，可以阻止污染源的进入，涂布液利用率较高，并且能够保持涂布液性质的稳定。通过控制速率，精密计量等方法来实现精准涂布。它是半导体显示光学薄膜应用中更具前景的涂布方法。