光学薄膜应力的分类

　　薄膜应力按作用方向的不同，被划分为负值的压应力和正值的张应力，当薄膜相对于基底膨胀时，则处于压应力状态，而当薄膜相对于基底收缩时，则处于张应力状态。

　　薄膜的残余应力由热应力和内应力组成，热应力与内应力的形成机理如下所述。

　　大多数薄膜在高于大气环境温度的真空环境中制备完成，在逐渐冷却至室温的过程中，由于薄膜与基底、薄膜与薄膜之间的热膨胀系数不同，使得薄膜系统中各部分之间的膨胀程度有所不同，这种由温度变化引起的薄膜系统中各部分之间的膨胀差异称为热应变，从而产生了热应力。薄膜内应力的形成机理的复杂程度远大于热应力。

　　薄膜内应力的形成、作用方向和作用方向的变化与薄膜的制备方式和工艺条件息息相关，不同的制备方式和工艺条件会作用在薄膜生长过程中，通过影响薄膜中的晶粒、晶界、杂质、空位和表面应力等因素来改变薄膜的结构，薄膜内应力的形成是多种机制综合作用的结果。