半导体光刻用光源制造商Gigaphoton发布新型激光器

    近日，半导体光刻用光源的制造商Gigaphoton宣布，公司已经开始发货新的KrF激光器“G300K”，作为其GIGANEX系列的一部分，该系列使用半导体制造光刻光源。

    KrF激光“G300K”是基于Gigaphoton的用于光刻光源的KrF激光技术，在微烧蚀的“优化处理”等概念下，在保持高稳定性、99％以上的高可用性、高输出的同时，价格实惠的机型。这有助于通过半导体制造后端过程中的加工过程提高微烧蚀的生产率和降低成本。

    由多个芯片组成的下一代半导体封装需要更小的外形尺寸，更高的工作频率和带宽，更高的功率效率以及更低的制造成本。近年来，所有人的目光都集中在满足这些要求的封装技术上，为此，连接各层的通孔的小型化至关重要。通过有机绝缘膜的处理进行的微烧蚀引起了极大的关注，因为它可以高速且低成本地进行。作为一种248nm波长的光源，KrF准分子激光器G300K具有短波长和高通量的优点，有利于小型化和高输出。

    Gigaphoton的总裁兼首席执行官KatsumiUranaka说：“GIGANEX系列的新产品G300K可以满足广泛的客户需求，并支持更高的生产率和更低的成本。GIGANEX系列将被推广到半导体制造以外的领域，并得到了广泛客户的期望，它将提供新的技术解决方案。我们将继续努力，将我们的GIGANEX系列应用于新的应用领域，并为下一代工业领域的发展做出贡献。”