杜克大学开发出铜纳米线的简易制作技术，成为取代ITO的候补
摘要: 美国杜克大学（Duke University）的研发团队宣布，他们发现了简易制作铜（Cu）纳米线的方法。据介绍，通过在透明薄膜上进行涂布，便能够以低成本实现柔性透明电极。
美国杜克大学（Duke University）的研发团队宣布，他们发现了简易制作铜（Cu）纳米线的方法。据介绍，通过在透明薄膜上进行涂布，便能够以低成本实现柔性透明电极。 铜纳米线指直径为90±10nm、长度为10±3μm、呈微细棒状的铜。杜克大学化学系助教Benjamin Wiley的研究小组开发出了采用化学手段制造铜纳米线的方法。 具体方法是向放在烧杯里的硝酸铜（Cu(NO3）2）水溶液中加入氢氧化钠（NaOH）、乙二胺（EDA）以及肼（H2NNH2）等，然后在80℃的温度下保存一个小时。溶液中首先会形成直径为几百nm的铜的粒子，铜纳米线就会从粒子中生长出来，就像种子发芽一样。 铜纳米线的长度，可通过调整生长时间来控制。例如，当生长时间为3分30秒时长度为1μm左右，而当生长时间为20分钟时，长度将达到几μm。 Wiley等人表示，通过采用卷对卷等涂布工艺在透明薄膜上对该铜纳米线进行涂层，从而可以取代ITO用于柔性显示器和太阳能电池中。实际制作的导电性透明薄膜的光透射率为65％。即使经过1000次的弯曲试验，以及暴露在空气中一个月后，仍然保持了导电性。 目前存在的课题是确立量产技术、降低在透明薄膜上进行涂布时的凝集，以及防止铜氧化。（日经BP记者：野泽 哲生） |
