武汉ZEMAX标准成像课程圆满结束

　　最新一期的ZEMAX光学设计标准成像培训于2017年5月15-17日在武汉成功举办。此期课程是南京光研第一次在武汉举办相关的课程培训，无论是在质量还是学习环境等都受到了学员的一致好评。光电工程师社区跟踪报道了本次培训。

　　（培训地点）

　　这次邀请了南京光研的年轻工程师李老师和冯老师为大家授课。在现场，每位学员都安装了最新版的ZEMAX OpticStudio 正版设计软件，全程上机操作练习，整个培训氛围轻松而又认真，老师不时与学员进行互动，通过理论联系实际的方式对学员进行讲解。

　　（李老师在授课）

　　（冯老师在授课）

　　课程第一天，李老师为大家详细地讲解了一些基础光学方面的知识，其中包括玻璃的属性，一阶光学，三阶光学，像差平衡，单透镜设计，初始优化方法，采样及参考点选择，默认评价函数与玻璃材料优化方法等重要的知识。第二天和第三天，冯老师讲解了很多的实例，其中包括扫描系统及折返系统实例，双高斯镜头MTF优化实例，焦镜头实例，变倍扩束镜实例，马赫曾德干涉仪实例等等，并带领大家进行了各种训练，培训的最后对相关问题进行了总结，为学员们进行了答疑。

　　（老师和学员进行讨论）

　　这次课程是专门针对刚接触ZEMAX设计软件或简单使用过ZEMAX设计的学员而设置，通过本课程密集培训和练习互动后，学员能达到独立轻松设计光学系统，并能进行分析及优化和公差评估。培训结束后很多学员都反映效果很好。下一期ZEMAX光学设计标准成像培训将于2017年5月24-26日在深圳举办。