光电所在大口径反射光学元件高反射率均匀性测试研究上取得突破

      光学镀膜完成的大口径反射光学元件光谱（反射率）非均匀性是非常重要的技术参数，必须满足一定的技术要求才能用于系统中，因此必须具备相应的测试手段对大口径反射元件的反射率（非）均匀性进行准确测量，从而保证用于系统中反射光学元件的质量，满足系统正常运行。 

　　中国科学院光电技术研究所薄膜光学测试研究团队建立了基于频率选择性光反馈光腔衰荡技术的高速、高精度、高空间分辨率大口径反射光学元件反射率及其均匀性测试原型样机，目前已用于国家工程任务中大口径反射元件的测试评估和质量控制，为大口径反射光学元件制备的工艺优化提供了测试技术平台。  

　　该测试技术取得的主要技术突破是实现了大口径反射元件反射率分布的二维高分辨成像测量，最大测量口径达到300×450mm，当R>99.99%时，反射率重复性精度优于±0.002%，反射率绝对测量精度优于±0.005%。可提供反射率测量的时间指数衰减拟合曲线和镜面反射率扫描的三维测试结果。 

　　该测试装置已经为大口径反射光学元件的反射率及其均匀性提供了高速、高精度、高空间分辨率的二维扫描反射率检测、对大口径光学元件反射率的评估和优化起到重要技术支持，成为国家高技术项目质量控制必要的测试技术平台之一。 

　　以上研究得到了中国科学院科研装备项目的资助。