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突破深紫外极限:光研科技193nm DUV光学元件检测方案

2025-11-18 08:53 发布者: update 阅读 583 评论 5

在半导体、光刻技术及高端光学系统飞速发展的今天,深紫外(DUV)波段的光学性能已成为决定系统成败的关键。尤其是193nm波长,作为DUV光刻与精密光学系统的核心,对滤光片、透镜、窗口片等元件的透过率与反射率提出 ...



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lingshifan2025-11-18 13:23
我记得好像是2001年开始搞的吧。
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frankgui2025-11-18 12:53
鼎力支持!!
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calmy2025-11-18 10:23
very good thanks
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davidEX2025-11-18 09:53
我是个凑数的。。。
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bstkevin2025-11-18 08:53
鼎力支持!!
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