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光学镀膜与膜系设计
» 镀AR時,製程溫度約80度C可行嗎?
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镀AR時,製程溫度約80度C可行嗎?
victorrose
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发表于 2008-5-14 20:20
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镀AR時,製程溫度約80度C可行嗎?
因特殊需求,需要在B270玻璃上镀AR時的製程溫度只能約80度C,這有可能嗎? 製程條件有何特殊要求?
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本帖最后由 victorrose 于 2008-5-14 20:25 编辑
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发表于 2008-5-14 23:06
只看该作者
学习楼住的这种精神~~~~TMD~~~太牛~~~~
问候一声,写文章累了
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发表于 2008-5-15 13:16
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当然有了
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发表于 2008-5-15 19:29
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回复 #3 zzzz 的帖子
您的意思是可行的? 请问制程条件有何特殊要求?谢谢您。
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发表于 2008-5-16 07:45
只看该作者
一般条件不加热不IAD就能做到.
你的条件如何??????????????
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发表于 2008-5-16 08:35
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那就溅射吧
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发表于 2008-5-17 10:29
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制程温度约80度C,使用IAD,结果用胶带一黏就掉。如果不用溅射,要如何达到?
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发表于 2008-5-17 14:44
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如果制程正常仍然发生脱膜,建议可以先观察一下膜层脱落的位置,从应力及边界结合力方面考虑一下。
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发表于 2008-5-18 08:27
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如果制程正常仍然发生脱膜,建议可以先观察一下膜层脱落的位置,从应力及边界结合力方面考虑一下。
好象有点道理,先测下是哪层脱落的
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发表于 2008-5-18 15:42
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用3M测试胶带一黏,所有的镀膜都掉落了。可能是哪里出了问题?
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发表于 2008-5-18 23:20
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不太可能吧,就算在塑料上镀AR,也不是胶带可以粘下来的,最起友得反复N次才有可能撕下来的。
镀在玻璃上都能撕下来,估计你材料用得不对,可能最后一层用的MGF2类材料吧。
世界没有绝对的对与错,用思想来判断
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发表于 2008-5-19 08:34
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你得先说明你的工艺条件,
否则大家只能瞎分析
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发表于 2008-5-20 19:21
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tio2+sio2+tio2+sio2+tio2+sio2
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发表于 2008-5-21 10:27
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为啥不用TA?
基板是什么材料的?
层数太多?不能减少吗?
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发表于 2008-5-27 10:44
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TA 适合用来做AR?
基材为玻璃
层数不能减
谢谢您
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发表于 2008-5-27 10:44
只看该作者
蒸镀什么材料有些材料可以冷镀呀...............................
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发表于 2008-5-27 13:06
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我的TA是指TA2O5了.
啥特殊要求啊?胶合件吧?
否则TI和玻璃的结合挺好的
先找找玻璃清洁方面的原因.
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发表于 2008-5-27 13:51
只看该作者
离子源可能没有用好,能否将你们离子源的使用过程描述描述
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发表于 2008-6-1 16:42
只看该作者
tio2+sio2+tio2+sio2+tio2+sio2 并使用IAD,我觉得不可能用3M测试胶带一黏就掉膜.镀膜工艺存在问题,你基片清洗得干净吗?
你离子源参数都设置了哪些?
以多层薄膜画成之光学干涉彩绘
阳光闪过,艳丽四射;
喜悦顿生,随即寂静;
能知其因,自明其果;
光学镀膜,妙用无穷.
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发表于 2008-6-1 17:08
只看该作者
我晕死,你那种工艺没问题,3M测试不会脱膜的。看镀前清洁度怎么样?不会是DP返油了吧?
鄙视MgF2的人是错误的,慢慢你们就会知道了。
非淡泊无以明志,非宁静无以致远.
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