请教镀膜过程中充O2的作用和目的,以及离子源的作用?谢谢!

有多种作用和目的;首先氧化作用;对离子源的离子辅助强烈碰撞,最主要的是跟膜料发生氧化,要不然你镀出来的有些材料会使片子黑呼呼的就废了,应该是这样了,

镀TiO2等氧化物时常要通氧，还原。

氧气压力不一样ND也会有点不一样哦,呵呵

主要是一些氧化物在蒸发时很容易失氧所得到的化学成份和原块状材料有很大区别,所以有些材料在蒸镀时需要加氧.

离子源的作用:通俗地讲是,惰性气体分子(一般是氩气)在通过热灯丝被电离成带正电的氩离子,加速冲击基底表面,打掉基底表面上粘接不牢的膜粒或表面上残存的灰尘颗粒,从而起来清洁表面和砸实膜层的作用;离子源还可以起来膜层均匀的作用,离子源对向电子枪蒸发方面,离子冲击蒸发颗粒,从而使蒸发颗料产生绕射,(改变了其原有的直线运动方向)从而使膜层均匀性得到改善.

我想这样解释应该是正确的,有哪位认为需要补充和改正的请续之

又长见识了，    谢谢！

离子源是用离化的低温高能粒子给膜料加能量。

对不同的材料作用不同。

学到知识了，真是谢谢了．

引用:

原帖由 huang12949 于 2008-2-5 08:39 发表
离子源的作用:通俗地讲是,惰性气体分子(一般是氩气)在通过热灯丝被电离成带正电的氩离子,加速冲击基底表面,打掉基底表面上粘接不牢的膜粒或表面上残存的灰尘颗粒,从而起来清洁表面和砸实膜层的作用;离子源还可以起来 ...

学习了！！！！多谢！！！兄弟说到了离子源的两个基本作用：1、清洁基板；2、离子助镀。我是做眼镜片镀膜的（一般的材料是PC、AC、TAC、CR39等）在镀膜前用离子轰击这些材料还可以使其表面更粗糙，增加膜材分子的结合力。

学习啊~~学习~~~

引用:

原帖由 huang12949 于 2008-2-5 08:39 发表
离子源的作用:通俗地讲是,惰性气体分子(一般是氩气)在通过热灯丝被电离成带正电的氩离子,加速冲击基底表面,打掉基底表面上粘接不牢的膜粒或表面上残存的灰尘颗粒,从而起来清洁表面和砸实膜层的作用;离子源还可以起来 ...

这里应该不是惰性气体Ar,应该是氧气，对于有一种等离子枪是Ar和O2相结合应用的。

我们用的离子源是又充ＡＲ气，又充Ｏ２，他们２者都是如何工作的，谢谢

O2应该主要是氧化作用,与药材反应形成氧化物.我想请教关于O2,Ar等气体的量的大小是依据什么去控制的,为什么有些是250有些又是350或更大呢