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光学镀膜与膜系设计
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宽带增透探讨
niechunyang
聂春阳
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发表于 2007-9-6 08:05
只看该作者
宽带增透探讨
在做400-700高透要求每一点小于0.5% 用al2o3 h4 mgf2 选了两种膜系 mgf2 al2o3 h4 mgf2
与mgf2 al2o3 h4 al2o3 mgf2 不知道可好，我做了效果不是很好，是材料和膜系有问题吗，谢谢师傅们的探讨
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发表于 2007-9-6 09:12
只看该作者
al2o3和H4都不是很稳定的料,控制起来比较难
我本将心向明月,奈何明月照沟渠.
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xiaozhou
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发表于 2007-9-6 18:29
只看该作者
是R<.5%吧,不难主要看什么材质
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niechunyang
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发表于 2007-9-7 12:31
只看该作者
在普通玻璃上呀，H4还不稳定那该用什么？
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zinuo009
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发表于 2007-9-9 14:44
只看该作者
试一试TiO2/SiO2/TiO2/SiO2
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lgciom
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发表于 2007-9-10 21:12
只看该作者
第一层不用氟化镁，主要是把吸收问题解决一下，应该可以
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ferry
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发表于 2007-9-11 11:22
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弱弱地问一句,H4是什么膜料啊?
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发表于 2007-9-11 11:48
只看该作者
建议你用ＴＡ２Ｏ５和ＭＧＦ２
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jhxxmlhk
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发表于 2007-9-12 00:17
只看该作者
S/H4/MgF2/H4/MgF2/H4/MgF2/Air,分光够宽,前两层镀稳定整个分光就稳定了.分光变异了制程也好修.在光学玻璃上镀AR膜Al2O3/H4/MgF2的组合是成功的,有时候考虑到品质问题首层需要镀Al2O3.
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jhxxmlhk
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发表于 2007-9-12 00:20
只看该作者
个人经验来看Ta2O5不是那么稳定,用jeol离子源辅助镀膜的时候分光变异很奇怪的,不过R<0.5%的制程可以做,0.3的就不稳定了.
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发表于 2007-9-13 10:21
只看该作者
用离子枪辅助,采用ZNS/MGF2膜系工艺.效果不错的.
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ferry
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发表于 2007-10-11 16:27
只看该作者
ZrO2和mgF2
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发表于 2008-1-10 19:23
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回复 #5 zinuo009 的帖子
为什么必须用光控呢？应该是晶控比光控更精确啊
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发表于 2008-1-10 19:42
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弱弱地问一句,H4是什么膜料啊?我也听说过，还请赐教！
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qqucqquc
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发表于 2008-1-24 22:49
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回复 #1 niechunyang 的帖子
用H4和MgF2是比较好的选择。。。。。。
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ic5
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发表于 2008-1-25 13:02
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H4是德国默克（merck）开发的一种TiO2和La2O3的混合膜料，避免了TiO2的短波处吸收（360nm—7000nm ）,适合用于常温，普通镀膜方式成膜。可见光区折射率大约在1.95—2.2之间左右（根据成膜温度和波长的不同而不同）。
资料都说只有最外层用MgF2。不知道你为什么第一层也用MgF2???
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无语了
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发表于 2008-5-21 22:20
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谁给解释下，1.第一层用AL2O3和用MgF2 有什么分别。2.两种材料分别起什么作用
还有谁告诉下膜系设计时IR CUT膜系初始怎么设计
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