为什么不用Si作光通信用薄膜的高折射率材料

薄膜设计上膜料的折射率相差越大, 膜系越简单. 在1200-1700nm范围内, Si的折射率比现在用的高折射材料Ta2O5, TaO2高的多, 为什么不用Si作光通信用薄膜的高折射率材料?

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工程技师

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发表于 2004-5-29 06:36 | 只看该作者

可能原因：Si不稳定，Si的折射率受氧化程度影响严重，而且Si很容易被氧化。而用于光通信产品的一个重要特征是稳定，化学稳定性要好，温飘要小。

☆博学之，审问之，慎思之，明辨之，笃行之

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工程大师

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发表于 2004-5-29 18:12 | 只看该作者

楼上的说的是，si不稳定！还有si的吸收也比较大，特别是温漂大！

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