耐压>0.2v/nm的薄膜制作

一般的耐压介质材料氧化钽、氧化铝等，但怎么做才能作出耐压性能优良的薄膜呢，请各位专家赐教。

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工程技师

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发表于 2004-5-29 18:28 | 只看该作者

镀多厚，用什么方法？

击穿与材料本身的介电特性相关，也与杂质有关。

☆博学之，审问之，慎思之，明辨之，笃行之

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专业人士

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发表于 2004-5-30 02:14 | 只看该作者

膜厚大约在6000埃左右，采用金属+介质+金属（MIM）结构检测

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工程技师

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发表于 2004-5-30 12:27 | 只看该作者

用电子枪蒸发还是溅射？是不是在一个真空室完成三层膜？我在考虑中间的介质层是不是受污染了，或者杂质浓度很高，或者其他缺陷严重。

☆博学之，审问之，慎思之，明辨之，笃行之

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