光控也是这样，比如上次镀膜和这次镀膜的时间就不一样，但监控波长、蒸发速率是一样的，能给于说明其原因吗？

1.保证蒸发速率不变，仍靠电子枪的能量的输出来保证。在实际的蒸发过程中，电子枪输出的同一能量却往往得不到同样的蒸发速率，主要原因是坩埚中的镀膜材料状态，晶片的灵敏度，真空度，温度在变化。所说的速率不变只是一个相对，它实际是一个不断变化调整的过程。时间不同很正常。
2.国产光控稳定性差是事实，但作一般产品问题不大，选择合适的控制方法很重要（光控）
3。SHINCRON的OPM有多种型号新型的OPM-V很有特点。

楼上的对SHINCRON的光控很有研究了?那么SHINCRON的光控内的积分球是怎么回事?

建議可以把真空室內引起反射的機構拆下來噴沙避免檔板打開時,電子槍的光線反射進入光源接收端
造成系統誤判
光源不穩定->光源系統可使用較好的穩壓器

to wazxq
opm=(结束光量值－峰值光量值）/（起始点的光量值－峰值的光量值）；
Shincron的光控内有积分球，我第一次听说；另Shincron根据峰值点来计算折射率1990就已经，随镀膜控制系统软件赠送了。

TO:  小技工  


谢谢！

我们的仪器和OPTICRUN光控的设计思路是一样的，比他们的好，准确度高，还有SINCLON的积分球是将杂散光混合，达到均匀得目的，这样光谱才会比较好！，对我们产品有兴趣的请给我发信，我可以寄资料给你们看！CIKELONG2000@163.com

给我一份怎样?

给我一份怎样?
ofeiying@mail.china.com

cikelong2000 :
     能否也给我一份，谢谢！water@aoctel.com

谢谢，我也来一份opticalfilm@yahoo.com

给我也来一份吧，pbs650@163.com

我不要.不要给我!

现在国内有人在做评价函数控制法,挺先进的!直接在线测试光谱曲线,进行实时修正控制!

bjp0809 :
  能把评价函数控制法说的详细点吗,谢谢!

我给需要的人都发了，希望能为大家工作提供帮助！也希望各位能有意象购买我们的产品！

ofeiying兄，你的邮件地址或空间不够了，发送失败，提供一个新的地址？！谢谢！

对于厚度的控制在不同的情况下选择不同的控制方法。晶控主要是用在层数少　氰　况下。这样晶控的精度要高一下。如果这时用光控的话。由于的光控的灵敏度高反而会不好。但是在层数多时。就不适宜用晶控。因为由于在镀膜过程中折射率会发生变化。这样用晶控的话膜厚精度达不到要求。这时就要用光控。而且重复性好。

其实，如果蒸发源均匀性比较好的话，晶控也是相当准确的

我现在都害怕用晶控了，怕精度不够，生产失败啊！