能详细讲讲吗？好像是波峰波谷极值与停镀点光信号比值，如何使用

lightratiopeak控制法正如wazxq 所说，具体用法是按照理论的设计值输入膜系结构程序中，但我认为这种方法不可取，因为实际镀膜和理论设计有很大的区别，不知道有没有人用过！

据我所知，目前Optorun机器中反射式控制的机器普遍采用这种控制方法！在我们公司，我们避免用Optical控制！
看来，IC5 wazxq是NBPF-2的高手，却对OTFC（Optorun的反射式）没有一点了解。

主要是没有OTFC玩，看过OTFC的介绍，MACLEOD设计，MACLEOD TO OTFC PROCESS,设计思想的确不错，简单易用， shanyu，使用情况真这么容易吗。  

要说是shincron的比例控制法,在下还听说过,也曾用过.
OTFC（Optorun的反射式）又是怎样控制的?

是啊，OTFC我也只是听说过，但我了解好象也有透射的，其光控玻璃片可以更换，这应该是透射吧，反射式也只有OPLINK有一台了！

你所说的"可以更换"是什么意思?

其监控片有很多个，可以旋转，由另一片处于光路中！

哦!原来如此,我们这里用的设备都是这样的,有的多达60-100个监控片!

所有Shincron的光控法都是计算OPM值简单的说：就是（起点的光量值－峰值点的光量值）/(结束点的光量值－峰值点的光量值）＝OPM比例值；然后用这个理论值去×实际的（起点值－峰值点的值）＋实际峰值点的值；这个Macleod的Runsheet 一样可以给出的。总之这种光控方式优点很多，但是折射率的控制是很重要的，还有由于使用的是Filter，定位的精度稍低

如今的SHINCRON设备,在镀膜时只要有极值点出现就可以计算出膜料的折射率.

我现在也是用的光控，但是在使用的时候光源的稳定性和噪声的干扰是个很大的问题，比如由于光源电压和电流的不稳定以及电子枪光的干扰等等会引起膜厚仪的很大波动，在控制极值的时候很不精确，直接影响成膜质量。请问有没有什么好的方法可以减少或者降低这样的干扰啊？比如加上一层铝箔保护光路等等
大家提一些好的建议出来讨论讨论啊！

你用的是国产的光控吧!
9704还是其它的?

我们采用的是国产的光控，同样存在flybirdzll所说的问题，而且用光控控制感觉可重复性很差，由于电子枪的干扰，光控信号也会产生很大波动，不知道哪位朋友做过相关方面的改进？有没有什么好的方法来避免这些问题？
请指教，谢谢

哪个公司生产的?

To: 小技工
(起点的光量值－峰值点的光量值）/(结束点的光量值－峰值点的光量值）＝OPM
shincron有文献说明吗？

可重复性差应该不是光控引起的，只要在镀制的时候膜厚仪比较稳定，极值点控制比较精确，重复性应该是没有问题的。我现在发现镀膜时间不同（镀制同样膜系时）对于重复性的影响是很大的，特别是使用的夹具比较大的时候，这种影响更加明显，不知道各位对这个有什么看法？

你所谓的蒸发时间不同,其实质是蒸发速率不同.自然会影响到膜厚的均匀性和重复性

如果设定的蒸发速率一样，但有时镀膜时间也不同（当然相差不大），这又怎么解释呢？

你用的是晶控吧!