膜厚控制方法中,光控好还是晶控好? :em02: ☆

当然是光控好了，他是光学性能的直接反映。但有时由于受到某些限制，不的不用晶控，光控的最大优势是相互补偿，以减小误差！

IC5 能介绍一下光控的补偿原理吗？谢谢

光控主要是对周期性膜系而言的(现在也有一种lightrate光空法,对非周期膜系),即在HL相互交替时,当膜料的光学厚度达到λ/4时,光值的走向是转向的,光空法是利用这个转向来判断的.光空补偿其根本就是对光值的判断,所有其误差达不到积累,这是他最大优势!

ic5说的没错，但是我觉得受限于国内光控的精度限制，有时候镀制层数较少、厚度要求不很严格的膜系，用晶控也有他的可重复性好，方便计算的优势，所以我觉得可以根据各自的需要选用或结合使用。

是的，光控中，光源的稳定性和光源噪声干扰一直很头痛啊

请教lightrate 是那一家公司的杰作？

我公司的光控系统很好，可以与老美的TELMAK想媲美，光源的稳定和信号躁声都很好，如果有意了解，请用邮件联系，cikelong2000@163.com

有没有介绍的资料？

lightrate为比例控制法,有听说过的吗?

厚度的控制，最大的精度能到多少呀？1纳米？

厚度控制的精度，你指的是哪里的精度，晶体片上的还是玻璃上沉积的厚度精度？有这方面的研究人员吗？

lightrate?
LightRatio?

lightrate = LightRatioPeak    

To ice5
   晶体片上的还是玻璃上沉积的厚度精度,都想问问。
我只是觉得1纳米太不好控制了，加工上能做到么？

我没有这方面的研究，估计也就在这个量级上，因为从膜料的蒸发速率来看，到1nm量级还是可以的。

有没有lightrate的详细资料?

有没有 lightrate  的详细资料?

抱歉,没有这样的资料,我只是听他人的介绍!

原来是Shincron的百分比膜厚计算控制法（OPM），Optorun也在使用；精度还可以，但是若是折射率偏差太大，控制误差也很大；